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全自動單軸減薄機是一款高精度、高效率的研削設備，專為半導體制造、硅片加工、光學材料處理及薄膜材料制備等領域設計。

由德國UNITEMP研發(fā)的用于 200 毫米（8 英寸）晶圓尺寸或 M10 182 x 182 毫米太陽能硅片的快速退火爐RTP-200。

由德國UNITEMP研發(fā)符合高真空標準的快速退火爐，升溫速率高達 75 K/sec。，升溫速率高達 150 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周轉時間短、舒適的氣體控制、臺式系統(tǒng)，占地面積小。

由德國UNITEMP研發(fā)的真空快速退火爐RTP-150-EP，升溫速率高達 150 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周轉時間短、舒適的氣體控制、臺式系統(tǒng)，占地面積小。

由德國UNITEMP研發(fā)的快速退火爐RTP-150，升溫速率高達 75 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周轉時間短、舒適的氣體控制、臺式系統(tǒng)，占地面積小

由德國UNITEMP研發(fā)的符合高真空標準的快速退火爐，升溫速率高達 200 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周轉時間短、舒適的氣體控制、臺式系統(tǒng)，占地面積小