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德國(guó)UNITEMP研發(fā)的符合高真空標(biāo)準(zhǔn)的快速退火爐RTP-100-HV，升溫速率可高達(dá) 150 K/sec。主要特點(diǎn)：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周轉(zhuǎn)時(shí)間短、舒適的氣體控制、臺(tái)式系統(tǒng)，占地面積小。

德國(guó)UNITEMP研發(fā)的符合真空標(biāo)準(zhǔn)的快速退火爐RTP-100-EP，升溫速率高達(dá) 200 K/sec。主要特點(diǎn)：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周轉(zhuǎn)時(shí)間短、舒適的氣體控制、臺(tái)式系統(tǒng)，占地面積小

快速退火爐，升溫速率高達(dá) 150 K/sec。

MPI 自豪地推出 LED 映射分揀機(jī)系列，該系列采用模塊化架構(gòu)設(shè)計(jì)，具有靈活性，使每個(gè)系統(tǒng)都能滿足每個(gè)客戶的精確要求。MPI LED 映射分揀機(jī)利用先進(jìn)的 Pick & Place 分揀工藝技術(shù)，可提供 55 毫秒/芯片或更短的高速模具分揀周期時(shí)間。

SUSS MicroTecs ASx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)提供了先進(jìn)的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩(wěn)定性和高性能使平臺(tái)能夠滿足無(wú)損加工掩模的要求，用于 248 nm 和 193 nm 光刻工藝。

掩模的完整性對(duì)高標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜清洗處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點(diǎn)在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標(biāo)準(zhǔn)。它是應(yīng)對(duì) 193i 1x half-pitch DPT、極紫外光刻 (EUVL) 和納米壓印光刻 (NIL)高要求的創(chuàng)新解決方案。以創(chuàng)新技術(shù)最大限度地提高光掩模性能。 MaskTrack Pro 允許用第三方的產(chǎn)品擴(kuò)展工具集群，并提供一個(gè)全面的方法