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VERIC A6151A 碳化硅高溫退火爐 適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備

VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐，適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備,最高溫度 2000℃，升溫速率可達 100℃/min,石墨電阻加熱，工藝腔室潔凈。

HORIC D200系列 擴散/氧化系統(tǒng)，半導體客戶端機臺裝機量大,可根據客戶需求配置多工藝組合的機臺,安全性能高：設備及所使用的元件符合國標和國際標準。

AGF系列 電阻式碳化硅長晶爐，適用于 6、8 英寸，導電 / 高純半絕緣型 SiC 晶體生長。

APS系列 感應式碳化硅長晶爐，適用于 6 英寸、8 英寸，導電 / 高純半絕緣型 SiC 晶體生長。

Pallas A220 碳化硅快速熱退火系統(tǒng)，加熱分區(qū)設計，具備良好的溫度均勻性。