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POLI-400Lcmp拋光機(jī)是4&6英寸小型化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)，采用手動(dòng)裝片方式，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點(diǎn)監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、STI、SOI、MEMS等產(chǎn)品的平坦化拋光，應(yīng)用廣泛。

CMP拋光機(jī)是一款針對(duì)薄膜（介質(zhì)層）的拋光設(shè)備，操作便捷，兼容性強(qiáng)，通過更換拋光壓頭實(shí)現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容，采用手動(dòng)裝片方式，可配置半自動(dòng)loading系統(tǒng)，氣囊薄膜柔性加壓，用于氧化物、金屬、STI、SOI、MEMS等產(chǎn)品的平坦化拋光，應(yīng)用廣泛

CMP拋光機(jī)是一款針對(duì)薄膜（介質(zhì)層）的拋光設(shè)備，操作便捷，兼容性強(qiáng)，通過更換拋光壓頭實(shí)現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容，采用手動(dòng)裝片方式，可配置半自動(dòng)loading系統(tǒng)，氣囊薄膜柔性加壓，用于氧化物、金屬、STI、SOI、MEMS等產(chǎn)品的平坦化拋光，應(yīng)用廣泛

全自動(dòng)CMP拋光機(jī)是一款針對(duì)薄膜（介質(zhì)層）的全自動(dòng)拋光設(shè)備，操作便捷，兼容性強(qiáng)，通過更換拋光壓頭實(shí)現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容，采用自動(dòng)化裝片方式，機(jī)械手自動(dòng)取放片，同時(shí)搭配雙面PVA滾刷進(jìn)行在線刷洗功能，實(shí)現(xiàn)干進(jìn)干出，用于氧化物、金屬、STI、SOI、MEMS等產(chǎn)品的平坦化拋光，應(yīng)用廣泛。

半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)是一款操作簡(jiǎn)單的桌面型單面拋光設(shè)備，可搭配銅盤、錫盤、玻璃盤、不銹鋼盤等，配合不同類型的拋光液，適用于各種半導(dǎo)體材料的研磨拋光，滿足科研院校、企業(yè)的研發(fā)及小批量生產(chǎn)。

化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CMP簡(jiǎn)介：1. 該化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)可用于各類半導(dǎo)體集成電路、氧化物、金屬、STI、SOI等產(chǎn)品的CMP平坦化拋光。 通過更換拋光頭可兼容4、6、8英寸晶圓2. 系統(tǒng)功能：手動(dòng)上下片，程序自動(dòng)進(jìn)行拋光，配有終點(diǎn)監(jiān)測(cè)裝置，配置半自動(dòng)loading & unloading托盤系統(tǒng)，8寸規(guī)格，方便8寸晶圓上下片3. 拋光數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)：具有摩擦力監(jiān)測(cè)功能。