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簡要描述:GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站,設(shè)計緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。
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1. 基本參數(shù)
適用晶圓尺寸:100mm(4") ~ 300mm(12")
配置:輸入噴淋清洗,兩個雙面刷清洗和旋轉(zhuǎn)漂洗干燥(可選:分離QDR)
清洗機尺寸:1610w 1260d 1640hmm電刷尺寸:070(外徑)031(內(nèi)徑)170(長)毫米
預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗
輥刷工位
化學(xué):nh4oh或DIW
刷頭型式:PVA刷頭,可同時清洗晶圓片的正反面
刷位調(diào)節(jié):手動控制(可用刷隙范圍:-10mm ~ 2mm)
轉(zhuǎn)速:<滿量程的±5%范圍30 ~ 400rpm
化學(xué)品供應(yīng):4個噴嘴和通過毛刷
可用化學(xué)品:2個化學(xué)品[NH4OH]
化學(xué)和DI流量:<滿量程的±5%。
轉(zhuǎn)站
選項:超高速掃描
旋轉(zhuǎn)速度:最高2500轉(zhuǎn)/分DI漂洗/ N2吹
控制工藝流程:手動加載,自動順序,濕/干液晶觸摸屏顯示器,程序控制PLC式。
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