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簡要描述:GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站,設(shè)計緊湊,占地面積小,可清洗(8“~12")晶圓。
產(chǎn)品分類
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1. 產(chǎn)品概述
適用晶圓尺寸:200mm(8")和300mm(12")
配置:獨立配置4個清洗工位,DIW刀預清洗,2個雙面滾刷清洗,N2吹旋轉(zhuǎn)漂洗干燥(可選分離式QDR)清潔器尺寸:1,970W 975D 1,380Hmm
電刷尺寸:70(外徑)32(內(nèi)徑)320(長)毫米
預清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗
輥刷工位
化學:nh4oh(<1%)或DIW
刷型:雙面PVA刷
轉(zhuǎn)速:<滿量程的±2%范圍30 ~ 300rpm
化學品供應:4個噴嘴和通過刷子
可用化學:2化學[NH4OH]
化學品流量:滿量程< 1L/min
DI流量:滿量程<5L/min
轉(zhuǎn)站
旋轉(zhuǎn)速度:高2500轉(zhuǎn)/分DIW沖洗/ N2吹
控制工藝:自動上片,自動順序,濕進/干出
程序控制:PC & PC觸摸監(jiān)控,程序可編程,計算機網(wǎng)絡(luò)可比
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