1. 產(chǎn)品概述

Saqua SC3080A系列 12英寸單片清洗設(shè)備。

2. 設(shè)備用途/原理

Saqua SC3080A系列 12英寸單片清洗設(shè)備，精密的腔室微環(huán)境控制能力，支持多種化學(xué)品，高效的化學(xué)品回收效率，4 腔或 8 腔可選。

3. 設(shè)備特點

晶圓尺寸 12 英寸，適用材料 單晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、介質(zhì)膜、金屬膜。適用工藝 后段 Cu/Al 制程刻蝕后清洗、Al Pad 清洗、背面清洗、背面刻蝕， 后段控擋片回收。適用域 新興應(yīng)用、集成電路、先進封裝。百科：?單片清洗設(shè)備主要用于清洗半導(dǎo)體晶圓、掩膜板、各種基片等材料的清洗干燥工藝。?單片清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備之一，特別是在硅片制造、晶圓制造及芯片封裝等場景中發(fā)揮著重要作用。這些設(shè)備通過采用旋轉(zhuǎn)噴淋、超聲波、氣泡等方式逐片清洗晶圓，確保半導(dǎo)體器件的潔凈度和性能。