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適用于硬偏置、引線、絕緣層和傳感器堆棧沉積 數(shù)據(jù)存儲制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 離子束沉積 (IBD) 系統(tǒng)大幅提高 80Gb/in2 傳感器的產(chǎn)量,并滿足未來 TFMH 設(shè)備制造的需求。
光掩模制造需要高水平的顆??刂?,同時沉積復(fù)雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統(tǒng)可以應(yīng)對這一挑戰(zhàn)。自 1990 年代以來,Veeco 已成功服務(wù)于光掩模市場,多年的學(xué)習(xí)造就了當今先進的系統(tǒng)。IBD-LDD 系統(tǒng)是當今 EUV 掩模坯料上的鉬 (Mo) 和硅 (Si) 多層沉積和釕 (Ru) 封端層沉積的理想選擇,以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應(yīng)用。
EvoVac PVD 平臺可以做任何您需要的事情。它有一個大腔室,可以配備您需要的任何源或工藝增強。EvoVac 物理氣相沉積平臺是我們具有可定制性的單腔室平臺,因此它可以配備用于特定應(yīng)用的工具,也可以成為適合您實驗室中各種用戶的多功能多源沉積主力。
EC400真空熱蒸鍍膜儀是一款功能全面的高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,專為薄膜制備與研究設(shè)計。其核心組件包括真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得與測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng),以及先進的PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)。該設(shè)備采用一體化設(shè)計,將主機與控制單元緊密結(jié)合,不僅操作簡便,而且結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,非常適合實驗室環(huán)境使用。
Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺是一款物理氣相沉積系統(tǒng),Amod物理氣相沉積平臺開始允許更大的腔室投射距離,并能夠適應(yīng)更多的工藝增強功能。您的研究目標、生產(chǎn)需求和/或應(yīng)用最終目標將告知如何裝備您的 Amod PVD 平臺。