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金屬有機物化學氣相沉積設備

簡要描述:適用于光電應用的 Lumina AS/P 金屬有機物化學氣相沉積 (MOCVD) 系統(tǒng)

  • 產(chǎn)品型號:Lumina AS/P
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-05
  • 訪  問  量: 103

詳細介紹

1.產(chǎn)品概述:

Lumina® 系統(tǒng)基于 Veeco 業(yè)界的金屬有機物化學氣相沉積 (MOCVD) TurboDisc® 技術(shù),在長時間的生產(chǎn)過程中,其具有均勻性和低缺陷率,帶來出色的產(chǎn)量和靈活性。此外,Veeco 的有技術(shù)也提供均勻的熱控制,可實現(xiàn)的厚度和組合均勻性。該系統(tǒng)提供無縫晶片尺寸過渡,能夠在直徑達 8 英寸的晶片上沉積高質(zhì)量 As/P 外延層。Lumina 系統(tǒng)允許用戶自定義系統(tǒng)以實現(xiàn)大價值。

2.產(chǎn)品應用

VCSEL

3D 傳感

LiDAR

高速數(shù)據(jù)通信

邊緣發(fā)射激光器

先進的光學通信

硅光電

迷你和微型 LED

4K 和 8K 電視顯示屏

智能手機

可穿戴設備

AR/VR(增強現(xiàn)實/虛擬現(xiàn)實)

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