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當(dāng)前位置:首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心  >  半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備  >  1 光刻設(shè)備

  • KS-S150星型全自動(dòng)涂膠顯影機(jī)

    KS-S150星型全自動(dòng)涂膠顯影機(jī)用于LED-PSS工藝的涂膠顯影制程及化合物半導(dǎo)體的涂膠顯影等制程??杉嫒菟{(lán)寶石、砷化鎵和碳化硅等材質(zhì)的晶圓,產(chǎn)品涉及多個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域,涂膠機(jī)產(chǎn)能大于190片/小時(shí)。設(shè)備通過(guò)了CSA認(rèn)證。

    更新時(shí)間:2024-09-04
    型號(hào):KS-S150
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:343
  • KS-FT200/300 前道8/12寸涂膠顯影機(jī)

    KS-FT200/300系列堆疊式高產(chǎn)能前道涂膠顯影機(jī),為我司自主研發(fā)的突破晶圓前道28nm工藝節(jié)點(diǎn)及以上工藝制程,適用于ArF、KrF、I-Line、PI、BARC,SOC,SOD,SOG等多種材料涂覆顯影工藝的機(jī)臺(tái)。支持與光刻機(jī)聯(lián)機(jī)作業(yè)。該系列機(jī)臺(tái)通過(guò)各種行業(yè)認(rèn)證,占地面積小、可靠性高、易于維護(hù),滿足各種功能芯片制程需求。

    更新時(shí)間:2024-09-04
    型號(hào):KS-FT200/300 前道8/12寸
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:189
  • 織雀™PL-3D Premium高精密微3D光刻機(jī)

    織雀™PL-3D Premium 是托托科技自主研發(fā)的高精密微3D光刻設(shè)備, 最高光學(xué)分辨率可達(dá)1μm,支持最大50 mm×50 mm×50 mm的加工尺寸,設(shè)備還支持對(duì)準(zhǔn)套刻功能,可在已有結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行多材料的駁接打印,在復(fù)雜三維微納結(jié)構(gòu)、高深寬比微納結(jié)構(gòu)以及復(fù)合材料三維微納結(jié)構(gòu)制造方面具有突出的潛能和優(yōu)勢(shì),而且還具有制造周期短、打印成本低、成型精度高、可使用材料種類多、無(wú)需模具直接成型的優(yōu)點(diǎn)

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號(hào):織雀™PL-3D Premium
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:221
  • BIO L+無(wú)掩膜光刻機(jī)

    BIO系列是生命科學(xué)版的無(wú)掩膜紫外光刻機(jī),無(wú)掩膜光刻機(jī)具有更高的深寬比,能滿足生命科學(xué)領(lǐng)域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微流控芯片的制造過(guò)程中,其高深寬比和高靈活性的特點(diǎn)得以展現(xiàn),可確保芯片的質(zhì)量和性能。這使得它成為生命科學(xué)研究和相關(guān)應(yīng)用中的重要工具。BIO 系列的出現(xiàn)為生命科學(xué)領(lǐng)域帶來(lái)了新的機(jī)遇。

    更新時(shí)間:2024-09-04
    型號(hào):BIO L+
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:162
  • UV Litho-S無(wú)掩膜光刻機(jī)

    Speed系列是高速版的無(wú)掩膜版紫外光刻機(jī),其無(wú)掩膜光刻機(jī)配備了先進(jìn)的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機(jī)不僅保證了高精度和高靈活性,更在這一基礎(chǔ)上,擁有了更高的光刻效率。其的性能特點(diǎn)使其特別適合小批量生產(chǎn)的場(chǎng)景。在該場(chǎng)景中,它能夠發(fā)揮出其高效的優(yōu)勢(shì),為生產(chǎn)帶來(lái)更高的效率和更好的質(zhì)量。Speed 系列為相關(guān)產(chǎn)業(yè)提供了更優(yōu)質(zhì)的選擇,滿足了市場(chǎng)對(duì)于高效率、高質(zhì)量生產(chǎn)的需求

    更新時(shí)間:2024-09-04
    型號(hào):UV Litho-S
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:147
  • UV Litho-ACA無(wú)掩膜光刻機(jī)

    ACA系列是科研版的無(wú)掩膜版紫外光刻機(jī),其基于空間光調(diào)制技術(shù),實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻,靈活性使其成為科學(xué)研究。設(shè)備搭載長(zhǎng)壽命、高功率的紫外光源,設(shè)備穩(wěn)定,上手簡(jiǎn)單。其的原位光繪和交互式套刻指引功能,讓光刻和套刻更加容易和精準(zhǔn)。ACA系列設(shè)備為科研工作提供了強(qiáng)大的支持,助力科學(xué)研究領(lǐng)域的發(fā)展和創(chuàng)新。

    更新時(shí)間:2024-09-04
    型號(hào):UV Litho-ACA
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:161
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