當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 1 光刻設(shè)備 > MA200 Gen3掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)
簡(jiǎn)要描述:MA200 3代掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)專為大批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì),適用于200毫米以下晶圓和方形襯底的自動(dòng)化加工。本系統(tǒng)集全場(chǎng)光刻技術(shù)與多種創(chuàng)新功能于一身。使其成為眾多應(yīng)用的優(yōu)秀系統(tǒng),例如生產(chǎn)厚膠工藝MEMS、有凹凸圖形的 3D 結(jié)構(gòu)以及先進(jìn)封裝應(yīng)用,如3D封裝、扇出封裝、凸點(diǎn)封裝及化合物半導(dǎo)體和圖像傳感器。
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MA200 3代提供適應(yīng)眾多生產(chǎn)過(guò)程的智能化解決方案。多樣化的對(duì)準(zhǔn)方案、靈活可調(diào)的鏡頭系統(tǒng)和特殊附加選項(xiàng)使本系統(tǒng)成為處理各種不同工藝的全能設(shè)備。
高度自動(dòng)化且切實(shí)節(jié)省寶貴的處理時(shí)間。這也體現(xiàn)在細(xì)節(jié)方面,例如選擇自動(dòng)更換濾光片,以便維持低運(yùn)營(yíng)成本。
MA200 3 代在設(shè)計(jì)方面著重凸出用戶友好性。如可調(diào)節(jié)高度的顯示器、符合人體工程學(xué)的I / O接口、連續(xù)運(yùn)行期間更換晶圓盒和直接觀看曝光模塊等特性大大簡(jiǎn)化了設(shè)備操作,即使是在高負(fù)荷工作時(shí)。
憑借其廣泛的附加選項(xiàng),第 3 代 MA200 很容易就能達(dá)到特種光刻工藝的要求。
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