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Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門(mén)級(jí)沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計(jì)特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積，提供了實(shí)惠的價(jià)格點(diǎn)，同時(shí)保持了您期望從 KJLC 獲得的質(zhì)量。

用于高級(jí)研究的先進(jìn)能力 Veeco 是原子層沉積 （ALD） 系統(tǒng)供應(yīng)商，為研究和工業(yè)提供全面的服務(wù)和多功能的交鑰匙系統(tǒng)，這些系統(tǒng)易于訪(fǎng)問(wèn)、經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且精確到原子尺度。薄膜沉積是我們的專(zhuān)長(zhǎng)。我們的 Savannah® 系列薄膜沉積工具就是這些能力的例證。

Phoenix®系統(tǒng)經(jīng)過(guò)精心設(shè)計(jì)，可在從中試生產(chǎn)到工業(yè)級(jí)制造的任何制造環(huán)境中實(shí)現(xiàn)高吞吐量和最長(zhǎng)的正常運(yùn)行時(shí)間。技術(shù)人員和研究人員依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上實(shí)現(xiàn)可重復(fù)、高精度的薄膜沉積。Phoenix®支持多達(dá)6條獨(dú)立的前驅(qū)體生產(chǎn)線(xiàn)，可根據(jù)您的薄膜需求提供固體、液體或氣體工藝化學(xué)成分。緊湊的占地面積和創(chuàng)新的設(shè)計(jì)使Phoenix®成為具有批量生產(chǎn)ALD要求的人們的實(shí)用選擇。

GEN2000® MBE 系統(tǒng)提供吞吐量、更長(zhǎng)的活動(dòng)周期、更小的占地面積和集群工具晶圓處理。它是 HBT 和 pHEMT 等無(wú)線(xiàn)通信設(shè)備大批量生產(chǎn)以及需要以低擁有成本生產(chǎn) 6 英寸的新興應(yīng)用的理想選擇。

Veeco 的 GEN200® MBE 系統(tǒng)是當(dāng)今市場(chǎng)上具成本效益和高容量的多 4 英寸生產(chǎn) MBE 系統(tǒng)。該系統(tǒng)在用于泵浦激光器、VCSEL 和 HBT 等設(shè)備的生長(zhǎng)中提供吞吐量、長(zhǎng)時(shí)間的加工周期和出色的晶圓質(zhì)量。

Veeco 的 GEN20™ MBE 系統(tǒng)是一種超靈活的工具，其設(shè)計(jì)可針對(duì) III-V 族和新興材料進(jìn)行配置，包括需要集成電子束技術(shù)的應(yīng)用。該系統(tǒng)采用生產(chǎn)設(shè)計(jì)技術(shù)，允許可選的集群工具晶圓傳輸系統(tǒng)，以實(shí)現(xiàn)理想的實(shí)驗(yàn)室到晶圓廠(chǎng)遷移。