當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 2 PVD > KaRon 設(shè)備部件鍍膜設(shè)備
簡(jiǎn)要描述:部件鍍膜設(shè)備是在真空狀態(tài)下在產(chǎn)品外部涂層非導(dǎo)電體的Coating設(shè)備,由真空內(nèi)產(chǎn)品做著自傳,公轉(zhuǎn),并能保持一定的膜厚度.
產(chǎn)品分類(lèi)
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本裝置是一款在真空環(huán)境下對(duì)產(chǎn)品外部進(jìn)行非導(dǎo)電體涂層的專(zhuān)業(yè)Coating設(shè)備。其核心特點(diǎn)包括:
真空環(huán)境操作:
設(shè)備在真空狀態(tài)下運(yùn)行,確保涂層過(guò)程不受外界雜質(zhì)干擾,保證涂層質(zhì)量。
自傳與公轉(zhuǎn)結(jié)合:
產(chǎn)品在真空室內(nèi)不僅進(jìn)行自轉(zhuǎn),還同時(shí)進(jìn)行公轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),這種復(fù)合運(yùn)動(dòng)方式有助于實(shí)現(xiàn)均勻且致密的涂層效果。
精確控制膜厚度:
設(shè)備具備精確的控制機(jī)制,能夠確保涂層保持一定的厚度,滿(mǎn)足不同的生產(chǎn)需求。
綜上所述,本裝置作為一款先進(jìn)的真空Coating設(shè)備,通過(guò)其自轉(zhuǎn)與公轉(zhuǎn)結(jié)合的運(yùn)動(dòng)方式,以及精確的膜厚度控制能力,為產(chǎn)品外部非導(dǎo)電體涂層提供了高效、高質(zhì)量的解決方案
設(shè)備構(gòu)成 | Thermal Evaporation |
到達(dá)真空 | 3 x 10-6 Torr |
排氣構(gòu)成 | D/P + MBP + Rotary Pump |
產(chǎn)品回轉(zhuǎn) | 真空內(nèi)自轉(zhuǎn),公轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng) |
Sputter Target | SUS,Ni,Al,Sn,Ti |
Cycle Time | 8~12 min |
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