1. 產(chǎn)品概述

PlasmaPro 800是一款先進(jìn)的等離子增強化學(xué)氣相沉積（PECVD）設(shè)備，專為大批量晶圓和300mm晶圓的生產(chǎn)需求而設(shè)計，提供了靈活且高效的處理解決方案。它引入了緊湊的開放式裝載系統(tǒng)，使得操作更加便捷，同時提升了生產(chǎn)效率，適應(yīng)各種制造環(huán)境。

該設(shè)備配備了460mm直徑的工作臺，具備處理整片300mm晶圓的能力，同時能夠高效處理大批量的43 x 50mm（2"）小晶圓，通過這一設(shè)計，PlasmaPro 800能夠滿足不同尺寸晶圓的生產(chǎn)需求，為用戶提供全面的量產(chǎn)解決方案。這種高適應(yīng)性的特點讓用戶能夠靈活應(yīng)對不斷變化的市場需求，特別是在大規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境中表現(xiàn)尤為突出。

此外，PlasmaPro 800以其出色的性能和可靠性贏得了市場的廣泛認(rèn)可。它支持多種材料的沉積工藝，能夠應(yīng)用于諸如光電設(shè)備、微電子器件、MEMS等多個領(lǐng)域，為客戶的創(chuàng)新研發(fā)和產(chǎn)品制造提供強大動力。

綜合來看，PlasmaPro 800不僅在技術(shù)上實現(xiàn)了突破，還通過其靈活的配置和高效的操作方式，將大批量晶圓的生產(chǎn)推向新的高度，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的可持續(xù)發(fā)展提供了堅實的基礎(chǔ)。

2. 特色參數(shù)

高性能工藝

準(zhǔn)確的襯底溫度控制

準(zhǔn)確的工藝控制

成熟的300mm單晶圓失效分析工藝

3. 為化合物半導(dǎo)體、光電子和光子學(xué)應(yīng)用提供了更為靈活的工藝，PlasmaPro 800 可提供：

大型電 - 低成本

刻蝕終點監(jiān)測 - 可靠性和可維護性俱佳

通過激光干涉儀與/或發(fā)射光譜進(jìn)行終點監(jiān)測 - 增強刻蝕控制

可選擇帶有4-、8-或12-條氣路的氣柜 - 可提供靈活的工藝和工藝氣體，可以與主機分離，放置在遠(yuǎn)端服務(wù)區(qū)

近距離耦合渦輪泵 - 提供優(yōu)秀的泵送速度加快氣體的流動速度

數(shù)據(jù)記錄 - 追溯腔室的歷史狀態(tài)以及工藝條件

液體冷卻和/或電加熱電 - 出色的電溫度控制和穩(wěn)定性