當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導體前道工藝設備 > 1 光刻設備 > KS-M300涂膠顯影半自動機臺
簡要描述:KS-M300半自動機臺可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產(chǎn)的工藝試驗和生產(chǎn)線。占地面積小,操作時手動上下片,工藝過程可自動完成。
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1. 產(chǎn)品概述
KS-M300半自動機臺是一款多功能設備,專為單片晶片的涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕及去膠工藝等一系列復雜工藝流程而設計。同時,它也可以高效地處理掩膜板的涂膠、顯影和清洗工藝。這款機器特別適合小批量生產(chǎn)的工藝試驗和生產(chǎn)線,不僅滿足了科研人員和工程師在實驗階段的需求,也為小規(guī)模生產(chǎn)提供了高效的解決方案。
KS-M300的設計考慮到操作的便利性和空間的利用,其占地面積小,可以輕松適應不同的實驗室或生產(chǎn)環(huán)境。在操作過程中,用戶只需手動上下片,其他工藝步驟均可由設備自動完成。這一特點大大減少了操作人員的工作負擔,提高了工作效率。同時,自動化的工藝流程也保證了工藝參數(shù)的穩(wěn)定性和一致性,為生產(chǎn)過程提供了可靠的保證。
此外,KS-M300的多功能性使得用戶可以靈活配置所需的工藝,從而滿足各種特定需求,無論是科研實驗還是小批量生產(chǎn),均能輕松應對。這種靈活性不僅提高了設備的利用率,也為用戶節(jié)省了時間和資金投入。
2. 產(chǎn)品優(yōu)勢:
占地空間小,配置靈活
易于操作,界面友好
保養(yǎng)維護方便
3. 應用域:
LED
封裝
MEMS
OLED等
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