當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 1 光刻設(shè)備 > μMLA無掩模光刻機(jī)
簡要描述:μMLA無掩模光刻機(jī)是先進(jìn)的無模板技術(shù),建立在著名的 μPG 平臺之上,該平臺是臺式無模板系統(tǒng)。
產(chǎn)品分類
Product Category相關(guān)文章
Related Articles詳細(xì)介紹
1. 產(chǎn)品概述:
臺式 μMLA 系統(tǒng)是先進(jìn)的無模板技術(shù),建立在的 μPG 平臺之上,該平臺是全球高的臺式無模板系統(tǒng)。它是一款入門研發(fā)(R&D)工具,幾乎適用于任何需要微結(jié)構(gòu)的應(yīng)用。典型的例子有微流控(細(xì)胞分選裝置、芯片實驗室)、小規(guī)模掩模寫入、微光學(xué)和微透鏡陣列、傳感器、MEMS、接觸式二維材料和扇出電等。
μMLA是一種靈活且可定制的工具,并提供兩種曝光模式。標(biāo)準(zhǔn)μMLA使用光柵掃描曝光模式進(jìn)行曝光,該模式速度快,可提供出色的圖像質(zhì)量和保真度,而寫入時間與圖案密度的結(jié)構(gòu)大小無關(guān)??蛇x的矢量掃描模式旨在以更快、更準(zhǔn)確的方式對連續(xù)平滑的曲線(如波導(dǎo))進(jìn)行圖案化。三種光學(xué)設(shè)置提供了可變分辨率和吞吐量的選擇。每種配置都允許在不同的分辨率和速度配置之間輕松切換,以優(yōu)化給定應(yīng)用的曝光。拉伸模式可以對現(xiàn)有結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接的臨時修改,并可以與納米線或 2D 材料進(jìn)行電接觸?;叶绕毓饽J皆试S創(chuàng)建復(fù)雜的 2.5 結(jié)構(gòu),例如微光學(xué)設(shè)備。μMLA占地面積小,可放在普通桌子上。
產(chǎn)品咨詢