當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 1 光刻設(shè)備 > ACS300 Gen3涂膠與顯影機
簡要描述:ACS300 Gen3作為模塊化系統(tǒng),是為滿足量產(chǎn)環(huán)境而專門設(shè)計的。它提供了復(fù)雜的涂膠、顯影和烘烤功能,可輕松地適應(yīng)各種工藝。其的工藝控制,有效地支持廣泛的使用領(lǐng)域。結(jié)合這一優(yōu)點,再加上有8個旋涂器模塊,該系統(tǒng)仍然是市面上占地面積最小的系統(tǒng);這些品質(zhì)都有利于減小購置成本,使得該設(shè)備對于任何具有挑戰(zhàn)性的先進封裝應(yīng)用(如圓片級芯片封裝、扇出圓片級封裝、銅柱倒裝芯片封裝和3D封裝)
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通過在一個系統(tǒng)中提供多種工藝技術(shù),如光阻劑、聚酰亞胺和PBO涂層,ACS300 Gen3提供了高效率。它還為每個模塊提供了多達五種抗蝕劑或四種顯影劑的能力,以實現(xiàn)最佳的工藝靈活性。此外,通用的熱板設(shè)計消除了對不同抗蝕劑或PI類型的特定熱板的需要。ACS300 Gen3允許同時處理200和300毫米的晶圓,而不需要進行機械轉(zhuǎn)換。
ACS300 Gen3可以實現(xiàn)高效的模塊堆疊,從而節(jié)省了潔凈室中昂貴的空間。多達12個模塊可以方便地在三層模塊系統(tǒng)中相互排列,而該工具的多種節(jié)省化學(xué)品的功能實現(xiàn)了進一步的節(jié)約。無論是SUSS MicroTec公司專有的GYRSET技術(shù)、新穎的分配技術(shù)還是化學(xué)品再循環(huán)系統(tǒng),該工具都能經(jīng)濟地使用化學(xué)品,并符合的可持續(xù)發(fā)展標準。
當使用可選的第二個機器人系統(tǒng)時,ACS300 Gen3在三步流程中達到了高達240 wph的吞吐率。一個先進的過程控制系統(tǒng)優(yōu)化了處理時間:調(diào)度算法可以有選擇地交換,以確保瓶頸步驟的時間段得到充分的利用。此外,諸如在高溫下的顯影劑和流動模式的特點也減少了加工時間。
使ACS300 Gen3脫穎而出的是其高度的過程控制。它可以連續(xù)記錄所有相關(guān)參數(shù)的過程數(shù)據(jù),如溫度、流量、壓力、體積、清洗率等。數(shù)據(jù)記錄允許精確調(diào)整過程參數(shù)、可重復(fù)的結(jié)果和快速識別潛在的薄弱點。過程變得更加穩(wěn)定和可重復(fù),產(chǎn)量也可以顯著提高。
占地面積小,高效的化學(xué)品處理,靈活的工藝,配置高,吞吐量的能力,穩(wěn)定的工藝結(jié)果
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