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簡要描述:1、Nikon S206D掃描式光刻機(jī)光源波長248nm分辨率優(yōu)于0.12µm主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域2、產(chǎn)品詳情主要技術(shù)指標(biāo)分辨率0.12µmN.A.0.82曝光光源248nm倍率4:1最大曝光現(xiàn)場25mm*33mm對準(zhǔn)精度20nm
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Nikon S206D 掃描式光刻機(jī)是一款高效的半導(dǎo)體制造設(shè)備,專為 200mm 晶圓的生產(chǎn)而設(shè)計。該機(jī)型采用先進(jìn)的掃描光刻技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率和高精度的圖案轉(zhuǎn)移,廣泛應(yīng)用于集成電路、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其快速的曝光速度和良好的穩(wěn)定性,S206D 適合大批量生產(chǎn),同時友好的操作界面和自動化功能降低了操作難度,提升了用戶體驗。這使得 Nikon S206D 成為現(xiàn)代半導(dǎo)體制造過程中重要工具,滿足行業(yè)對高質(zhì)量和高效率的需求。
該設(shè)備通過高強(qiáng)度光源將掩模上的圖案投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長的光線,經(jīng)過高分辨率光學(xué)系統(tǒng),將掩模圖案精確掃描并投影到晶圓上。曝光后,光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化,隨后進(jìn)行顯影,去除未曝光或已曝光的光刻膠,從而形成所需的圖案。接著,采用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上,最后去除殘留的光刻膠。這一系列步驟使得 Nikon S206D 能夠高效地實現(xiàn)復(fù)雜圖形的精確轉(zhuǎn)移,滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的高標(biāo)準(zhǔn)要求。
分辨率 | 0.12µm |
N.A. | 0.82 |
曝光光源 | 248nm |
倍率 | 4:1 |
大曝光現(xiàn)場 | 25mm*33mm |
對準(zhǔn)精度 | 20nm |
Nikon S206D掃描式光刻機(jī)
光源波長248nm
分辨率優(yōu)于0.12µm
主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線
廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等
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