一、產(chǎn)品概述：

Nikon S205C 掃描式光刻機是一款高效能的半導體制造設(shè)備，專為 200mm 晶圓的生產(chǎn)設(shè)計。該機型采用先進的掃描光刻技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率和精確的圖案轉(zhuǎn)移，廣泛應用于集成電路、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其快速曝光速度和良好的穩(wěn)定性，S205C 非常適合大批量生產(chǎn)，同時其用戶友好的操作界面和自動化功能也降低了操作難度，提升了生產(chǎn)效率。這使得 Nikon S205C 成為現(xiàn)代半導體制造過程中重要工具，滿足行業(yè)對高質(zhì)量和高效率的需求。

二、設(shè)備用途/原理：

該設(shè)備通過高強度光源將掩模上的圖案投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長的光線，經(jīng)過高分辨率光學系統(tǒng)，將掩模圖案精確掃描并投影到晶圓上。曝光后，光刻膠的化學性質(zhì)發(fā)生變化，隨后進行顯影，去除未曝光或已曝光的光刻膠，從而形成所需的圖案。接著，采用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上，最后去除殘留的光刻膠。這一系列步驟使得 Nikon S205C 能夠高效地實現(xiàn)復雜圖形的精確轉(zhuǎn)移，滿足現(xiàn)代半導體制造的高標準要求。

三、主要技術(shù)指標：

四、設(shè)備特點

Nikon S205C掃描式光刻機

光源波長248nm

分辨率優(yōu)于0.15µm

主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線

廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等域