1. 產(chǎn)品概述

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)E-Beam

系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺等部分組成。

2. 設(shè)備用途

本系統(tǒng)配有一套電子槍及電源，可滿足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多種金屬和介質(zhì)膜基片上均勻沉積多層膜的需要。

3. 技術(shù)參數(shù)

真空室尺寸：定制

極限真空度：≤6.0E-5Pa                    

沉積源：6個40cc坩堝                  

溫度：最高300℃

電控描述：全自動

工藝：片內(nèi)膜厚均勻性：≤±3%

特色參數(shù)：樣品尺寸及數(shù)量可定制，工件架有拱形基片架和行星形基片架

4. 企業(yè)簡介

深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司已授實用新型權(quán)利 29 項，軟件著作權(quán) 14 項，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。