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簡要描述:掃描聲學(xué)顯微鏡 概述:為了識(shí)別前沿封裝微電子應(yīng)用中最小和最細(xì)微的缺陷,ECHO VS包括標(biāo)準(zhǔn)功能,如用于最佳聲耦合的熱水、用于有效捕獲最有用數(shù)據(jù)的靈活TAMI、用于提高信噪比的波形平均、ICEBERG用于提高圖像質(zhì)量,MFCI用于在嚴(yán)苛的應(yīng)用中增強(qiáng)圖像質(zhì)量。ECHO VS是用于成型倒裝芯片、CSP、MCM、疊片、MUF和其他*進(jìn)封裝技術(shù)的超聲波無損檢測(cè)設(shè)備。
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掃描聲學(xué)顯微鏡(SAM)是一種高分辨率的成像設(shè)備,用于分析材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)和缺陷。該儀器利用超聲波探測(cè)技術(shù),可以獲得微米級(jí)別的分辨率,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。
掃描聲學(xué)顯微鏡主要用于檢測(cè)和分析材料內(nèi)部的缺陷、應(yīng)力和微觀結(jié)構(gòu)。工程師和研究人員可以利用該儀器進(jìn)行材料的質(zhì)量控制、故障分析和新材料的研發(fā),以確保材料在實(shí)際應(yīng)用中的可靠性和性能。
掃描聲學(xué)顯微鏡通過發(fā)射超聲波信號(hào)到樣品中,并接收反射回來的信號(hào)來工作。儀器內(nèi)部使用高靈敏度的探測(cè)器和信號(hào)處理技術(shù),將反射信號(hào)轉(zhuǎn)換為圖像,顯示樣品內(nèi)部的結(jié)構(gòu)和缺陷。用戶可以調(diào)整掃描參數(shù),以獲得不同深度和細(xì)節(jié)的成像,從而進(jìn)行深入的材料分析和研究。
1. 為了識(shí)別沿封裝微電子應(yīng)用中小和細(xì)微的缺陷,ECHO VS包括標(biāo)準(zhǔn)功能,如用于佳聲耦合的熱水、用于有效捕獲有用數(shù)據(jù)的靈活TAMI、用于提高信噪比的波形平均、ICEBERG用于提高圖像質(zhì)量,MFCI用于在苛刻的應(yīng)用中增強(qiáng)圖像質(zhì)量。ECHO VS是用于成型倒裝芯片、CSP、MCM、疊片、MUF和其他先進(jìn)封裝技術(shù)的終超聲波無損檢測(cè)設(shè)備
2. 檢測(cè)薄至0.01μm的空氣缺陷,并在空間上解決低至5μm的缺陷
3. 圖像優(yōu)化,提高復(fù)雜模制倒裝芯片(MUF)和具有聚酰亞胺層的封裝的圖像質(zhì)量
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