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Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LE™是我們但極其靈活的原子層沉積 （ALD） 系統(tǒng)，專為入門級到中級用戶而設(shè)計。該ALD150LE™配置為純熱原子層沉積，工藝室設(shè)計促進了均勻的母離子分散和輸送。加熱和溫度控制進一步增強了系統(tǒng)性能?？傮w而言，該ALD150LE™在緊湊的設(shè)計中提供了的靈活性和性能，而不會犧牲可維護性。

Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LX™是一種原子層沉積ALD 系統(tǒng)，專為高級研發(fā) （R&D） 應(yīng)用而設(shè)計。創(chuàng)新的ALD150LX設(shè)計功能，如我們的前驅(qū)體聚焦技術(shù)™，以及我們超高純度 （UHP） 工藝能力等進步技術(shù)，提供了靈活性和性能。

概述 針對有機材料沉積進行了優(yōu)化 多達 12 個 LTE 信號源;1cc、10cc或35cc容量 主體與摻雜劑比 1000：1 多達 4 個熱蒸發(fā)源 基板快門 自動基板、掩膜存儲和更換 高溫計端口 手套箱接口設(shè)計，帶滑動前門和滑動后門 KJLC eKLipse™ 控制軟件 速率控制分辨率 0.05Å/s 基于配方的基于 PC 的系統(tǒng)控制 低溫泵高真空泵 2位閘閥

Kurt J. Lesker Company 的有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)和金屬 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺是一種成熟、堅固和多功能的設(shè)計。SPECTROS建立在原始設(shè)計的成功基礎(chǔ)上，改進了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時間。腔室設(shè)計、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、實時配方線程操作以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能。

Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺在全球擁有100多臺設(shè)備，是一種成熟、堅固和多功能的設(shè)計。Mini SPECTROS建立在原始設(shè)計的成功基礎(chǔ)上，改進了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時間。技術(shù)的腔室設(shè)計、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、實時配方線程操作以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能，這些

Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門級沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積，提供了實惠的價格點，同時保持了您期望從 KJLC 獲得的質(zhì)量。