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高精密單面光刻機(jī)是一種先進(jìn)的半導(dǎo)體制造設(shè)備，用于在硅片或其他基板上制作微小而精確的圖案。該設(shè)備結(jié)合了光學(xué)、機(jī)械和控制系統(tǒng)，以實(shí)現(xiàn)高分辨率、高精度的圖案轉(zhuǎn)移過(guò)程。主要組成部分包括曝光系統(tǒng)、對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、底片/掩模系統(tǒng)和步進(jìn)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。曝光系統(tǒng)是光刻機(jī)的核心部件，它通過(guò)照射光源將圖案投影到基板上。常見(jiàn)的曝光光源包括紫外線(xiàn)（UV）光源和電子束（EB）光源，其中紫外線(xiàn)光刻機(jī)在半導(dǎo)體制造中應(yīng)用廣泛。對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)用于確保底片和基板之間的精確對(duì)位，以保證圖案的準(zhǔn)確傳輸。底片/掩模系統(tǒng)則負(fù)責(zé)支持和固定...