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電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備CMS系列極其強(qiáng)大的先進(jìn)研究工具 設(shè)計(jì)用于適應(yīng)特定的薄膜應(yīng)用，如 GMR、CMS、半導(dǎo)體、納米級(jí)器件、光子學(xué)和光伏 系統(tǒng)設(shè)計(jì)可以配置為真正的超高真空性能 經(jīng)過現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試和驗(yàn)證的設(shè)計(jì)

Kurt J. Lesker Company LAB Line UHV 磁控濺射鍍膜設(shè)備專為磁控濺射沉積應(yīng)用而設(shè)計(jì)。為滿足 UHV 濺射工藝需求而定制的腔室設(shè)計(jì)、具有高級(jí)編程、負(fù)載鎖定功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能是這種創(chuàng)新設(shè)計(jì)提供的一些優(yōu)勢(shì)。®

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺(tái)是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn) 8 英寸晶圓轉(zhuǎn)移、多達(dá) 8 個(gè)濺射陰極和 eKLipse 高級(jí)控制軟件。

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺(tái)的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。PVD 75 在全球擁有 400 多臺(tái)設(shè)備，是一款久經(jīng)考驗(yàn)、堅(jiān)固耐用且用途廣泛的設(shè)計(jì)。PRO Line PVD 75 建立在原始設(shè)計(jì)的成功基礎(chǔ)上，改進(jìn)了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時(shí)間。技術(shù)的腔室設(shè)計(jì)、具有高級(jí)編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、自動(dòng)

Veeco 的單靶點(diǎn) NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統(tǒng)為各種薄膜沉積應(yīng)用提供了最大的靈活性。NEXUS PVD 的加工精度為 200 毫米，具有先進(jìn)的工藝能力、均勻性和多種沉積模式

我們的 Fiji® 系列是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統(tǒng)，采用靈活的架構(gòu)和多種前驅(qū)體和等離子體氣體配置，可適應(yīng)各種沉積模式。Fiji G2 是下一代 ALD 系統(tǒng)，能夠執(zhí)行熱成像和等離子體增強(qiáng)沉積。