當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 3 CVD > TurboDisc EPIK 868金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積MOCVD
簡(jiǎn)要描述:Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 業(yè)界最高性能的金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOCVD,可實(shí)現(xiàn)出色的均勻性和可重復(fù)性,以及低缺陷率。Veeco 提供了一系列 GaN 和 As/P 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積 (MOCVD) 系統(tǒng),提高吞吐量,同時(shí)降低包括顯示器、3D 傳感、LiDAR、微型 LED 顯示器和光學(xué)數(shù)據(jù)通信在內(nèi)的各種應(yīng)用的擁有成本。
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1.產(chǎn)品概述:
Veeco 提供了一系列行業(yè)的 GaN 和 As/P 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積 (MOCVD) 系統(tǒng),提高吞吐量,同時(shí)降低包括顯示器、3D 傳感、LiDAR、微型 LED 顯示器和光學(xué)數(shù)據(jù)通信在內(nèi)的各種應(yīng)用的擁有成本。
2.產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):
最大的資本效率和占地面積節(jié)省,提供優(yōu)秀的性能
出色的均勻性與低缺陷率
緊湊型集群架構(gòu)
高吞吐量體系結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)最大生產(chǎn)
3.產(chǎn)品工藝:
Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 業(yè)界最高性能的金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積 (MOCVD) 系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)出色的均勻性和可重復(fù)性,以及低缺陷率。EPIK 868 擁有四反應(yīng)腔配置并采用突破性技術(shù),包括專有的 IsoFlange™ 和 TruHeat™ 技術(shù),其可在整個(gè)晶片載體上提供層流和均勻的溫度曲線。這些技術(shù)創(chuàng)新推動(dòng)了迷你和微型 LED 所需的更高產(chǎn)量。EPIK 固有的 868 TurboDisc® 技術(shù)可實(shí)現(xiàn)最高的系統(tǒng)可用性和正常運(yùn)行時(shí)間。EPIK 868 高容量承載盤專為大批量生產(chǎn)設(shè)計(jì),擁有成本容納多個(gè) 4"或 6" 晶片尺寸??蛻艨梢院茌p松地從現(xiàn)有的 TurboDisc 系統(tǒng)切換到新的 EPIK 868 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積 (MOCVD) 平臺(tái),從而快速啟動(dòng)高品質(zhì)迷你和微型 LED 的生產(chǎn)。
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