PEALD 實現(xiàn)最佳薄膜均勻性 < 1 %

SENTECH SILAYO 等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 系統(tǒng)設(shè)計用于在大型 3D 物體和小基材批次上進行保形和均勻光學(xué)鍍膜。SENTECH專有的平面三重螺旋天線（PTSA）為均勻的光學(xué)鍍膜提供均勻的等離子體。

直徑達 330 mm、高度達 100 mm 的樣品

SENTECH SILAYO PEALD系統(tǒng)能夠均勻包被直徑達330 mm、垂直尺寸達100 mm的樣品。

使用射頻偏置進行應(yīng)力控制

可選的射頻偏置襯底電極允許修改層屬性（例如應(yīng)力和折射率）

SENTECH SILAYO PEALD系統(tǒng)設(shè)計用于在大型和3D形狀的基材上沉積材料，特別適用于對層性能要求高的光學(xué)鍍膜，例如厚度和成分控制的高精度，光滑的表面和尖銳的界面，應(yīng)力控制，特別是高厚度的多層堆疊，3D形狀上的高均勻性和保形性，以及降低沉積溫度以實現(xiàn)低損傷加工。

該系統(tǒng)可以選擇配備SENTECH AL實時監(jiān)測儀的專有技術(shù)，用于原位監(jiān)測。

SENTECH SILAYO由先進的硬件和SENTECH SIA軟件控制，具有客戶端-服務(wù)器架構(gòu)。一個經(jīng)過充分驗證的、可靠的可編程邏輯控制器（PLC）用于所有組件的實時控制。