當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 3 CVD > PlasmaPro 100 Nano等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積
簡(jiǎn)要描述:PlasmaPro 100 Nano用于生長(zhǎng)1D / 2D納米材料和異質(zhì)結(jié)構(gòu)的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通過(guò)在線催化劑活化和嚴(yán)格的工藝控制,實(shí)現(xiàn)納米材料的高性能生長(zhǎng)。
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更佳的均勻性以及靈活的溫度范圍, 最高可達(dá)1200°C
700°C、800°C或1200°C工作臺(tái)可供選擇
樣品尺寸可達(dá)200mm
真空傳送腔——快速更換樣品
冷壁設(shè)計(jì)并輔以可均勻輸送氣體/液體源前驅(qū)體的噴頭
可選的液體/固體源前驅(qū)體輸送系統(tǒng),用于生長(zhǎng)MOS2、MOSe2和其它TMDCs材料
應(yīng)用:
二維材料 生長(zhǎng)
MoS2 生長(zhǎng)
石墨烯 生長(zhǎng)
一維材料 生長(zhǎng)
碳納米管(CNT)生長(zhǎng)
氣柜 —— 包含額外的氣體管線,提供更大的靈活性
渦輪分子真空泵 —— 提供泵送速度加快氣體的流動(dòng)速度
光學(xué)終點(diǎn)探測(cè)—— 實(shí)現(xiàn)更好工藝結(jié)果的重要工具
TEOS液位傳感 —— 使用安裝在TEOS罐上的超聲波液位傳感器實(shí)現(xiàn)液位傳感
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