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簡要描述:Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng),磁控濺射源和腔室結(jié)構(gòu)的設(shè)計有效提高靶材利用率。
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1. 產(chǎn)品概述
Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng),磁控濺射源和腔室結(jié)構(gòu)的設(shè)計有效提高靶材利用率。
2. 設(shè)備用途/原理
Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng),磁控濺射源和腔室結(jié)構(gòu)的設(shè)計有效提高靶材利用率,靈活的腔室配置,針對先進(jìn)封裝域優(yōu)化、穩(wěn)定的傳輸系統(tǒng),兼容玻璃片、翹曲片、鍵合片等多種類型基片傳輸,穩(wěn)定并且低的Rc表現(xiàn),良好的顆粒和應(yīng)力控制能力,優(yōu)化的工藝流程帶來大產(chǎn)能表現(xiàn),低運(yùn)營成本。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
晶圓尺寸 12英寸,適用材料 銅、鈦、氮化鈦、鉭、氮化鉭、鎢化鈦、金、鋁等,適用工藝 電、先進(jìn)封裝中的UBM/RDL,適用域 新興應(yīng)用、先進(jìn)封裝。
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