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簡要描述:Satur系列 多片式MOCVD系統(tǒng),優(yōu)異的均勻性、一致性、穩(wěn)定性控制,MOCVD 即金屬有機物化學氣相沉積,是一種用于生長化合物半導體薄膜的技術。它通過將Ⅲ族元素的有機化合物和氨氣或氧氣等作為晶體生長源材料,以熱分解反應方式在襯底上進行氣相外延,生長各種化合物半導體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。
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1. 產(chǎn)品概述
Satur系列 多片式MOCVD系統(tǒng),優(yōu)異的均勻性、一致性、穩(wěn)定性控制,MOCVD 即金屬有機物化學氣相沉積,是一種用于生長化合物半導體薄膜的技術。它通過將Ⅲ族元素的有機化合物和氨氣或氧氣等作為晶體生長源材料,以熱分解反應方式在襯底上進行氣相外延,生長各種化合物半導體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。
2. 設備用途/原理
Satur系列 多片式MOCVD系統(tǒng),優(yōu)異的均勻性、一致性、穩(wěn)定性控制,盒對盒全自動傳輸系統(tǒng),先進的實時監(jiān)控系統(tǒng),友好界面與配方編輯功能,滿足 SEMI S2 安全標準。
3. 設備特點
晶圓尺寸 4、6、8 英寸,沉積材料 氮化鎵、砷化鎵、磷化銦。適用材料 硅、碳化硅、氧化鋁、砷化鎵、磷化銦。適用領域 科研、集成電路、化合物半導體。
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