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CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)是為研發(fā)型客戶(hù)和工業(yè)級(jí)客戶(hù)而設(shè)計(jì)的等離子體表面處理設(shè)備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場(chǎng)景。適用于等離子清洗，活化以及刻蝕等多種應(yīng)用，設(shè)備可在嚴(yán)苛環(huán)境下穩(wěn)定運(yùn)行...

Beneq TFS 200 是有史以來(lái)最靈活的原子層沉積研究平臺(tái)，專(zhuān)為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計(jì)。Beneq TFS 200 經(jīng)過(guò)專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)，可最大限度地減少多用戶(hù)研究環(huán)境中可能發(fā)生的任何交叉污染。大量的...

1、Nikon S207D掃描式光刻機(jī)光源波長(zhǎng)248nm分辨率優(yōu)于0.11µm主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線(xiàn)廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域2、產(chǎn)品詳情主要技術(shù)指標(biāo)分辨率0.11&...

1、Nikon S208D掃描式光刻機(jī)光源波長(zhǎng)248nm分辨率優(yōu)于0.11µm主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線(xiàn)廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域2、產(chǎn)品詳情主要技術(shù)指標(biāo)分辨率0.11&...

深硅刻蝕機(jī)PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕，同時(shí)兼具Bosch/Non-Bosch工藝，實(shí)現(xiàn)多工藝領(lǐng)域覆蓋。該機(jī)臺(tái)針對(duì)Bosch循環(huán)工藝方式采用專(zhuān)業(yè)先進(jìn)的快速響應(yīng)硬件配置及軟件流程控制，結(jié)合先...

化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CMP簡(jiǎn)介：1. 該化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)可用于各類(lèi)半導(dǎo)體集成電路、氧化物、金屬、STI、SOI等產(chǎn)品的CMP平坦化拋光。 通過(guò)更換拋光頭可兼容4、6、8英寸晶圓2. 系統(tǒng)功能：手動(dòng)上下片，程序...

精密劃片機(jī)，劃片機(jī) 簡(jiǎn)介：半導(dǎo)體晶圓、集成電路、QFN、發(fā)光二極管、LED芯片、太陽(yáng)能電池、電子基片等的劃切，適用于包括硅、石英、陶瓷、氧化鋁、氧化鐵、砷化鎵、鈮酸鋰、藍(lán)寶石和玻璃等。

CMP后清洗機(jī) 簡(jiǎn)介：該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專(zhuān)用清洗設(shè)備，有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線(xiàn)式等不同結(jié)構(gòu)，以適用不同應(yīng)用場(chǎng)景，其中連線(xiàn)式設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹...

自動(dòng)光學(xué)檢查系統(tǒng) 簡(jiǎn)介：全自動(dòng)AOI系統(tǒng)可獲取目標(biāo)表面高分辨率圖像，并根據(jù)用戶(hù)標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行光學(xué)檢測(cè)。例如，激光二極管的端面檢查，鍍膜的質(zhì)量監(jiān)控，表面檢查，半導(dǎo)體芯片的頂部/底部/側(cè)壁檢查，以及晶片分揀。

回流焊爐簡(jiǎn)介：1. 應(yīng)用領(lǐng)域：無(wú)助焊劑焊接；倒裝芯片焊接；鍵合；Bump回流焊接；微電子封裝；功率器件焊接；晶圓熱處理；工藝研發(fā)；質(zhì)量控制2. 加熱區(qū)域：4、6、8、12英寸3. 腔體高度：40mm ...

減薄機(jī) 簡(jiǎn)介：1. 可根據(jù)客戶(hù)需求定制化各類(lèi)工作臺(tái)，滿(mǎn)足各類(lèi)半導(dǎo)體材料的研削薄化工藝2. 最大晶圓尺寸：8英寸3. 砂輪規(guī)格：Ø203(OD)mm4. 砂輪軸轉(zhuǎn)速范圍：0~6000 RPM5...

德國(guó)UNITEMP真空共晶爐、燒結(jié)爐，緊湊臺(tái)式設(shè)計(jì)，可在氮?dú)?甲酸等氛圍操作，廣泛用于激光、射頻電路、功率器件等微電子光電子行業(yè)的晶粒貼裝，以及金-硅合金，密集焊接和回流共晶。

半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)是一款操作簡(jiǎn)單的桌面型單面拋光設(shè)備，可搭配銅盤(pán)、錫盤(pán)、玻璃盤(pán)、不銹鋼盤(pán)等，配合不同類(lèi)型的拋光液，適用于各種半導(dǎo)體材料的研磨拋光，滿(mǎn)足科研院校、企業(yè)的研發(fā)及小批量生產(chǎn)。

掃描電鏡SEM簡(jiǎn)介：FE-SEM獲得的圖像分辨率高，信息豐富，樣品處理相對(duì)簡(jiǎn)單，并且它可以觀(guān)察、測(cè)量并分析樣品的細(xì)微結(jié)構(gòu)，因此被廣泛應(yīng)用于納米技術(shù)、半導(dǎo)體、電子器件、生命科學(xué)、材料等領(lǐng)域。

透射電鏡TEM 介紹：1. 配備了高靈敏度sCMOS相機(jī)、超廣視野的蒙太奇系統(tǒng)以及光學(xué)顯微鏡圖像的聯(lián)動(dòng)功能，是一款新型的高通量、高分辨率 的120kV透射電子顯微鏡2. TEM分辨率 (nm)：0.1...

聚焦離子束系統(tǒng)FIB是將離子源產(chǎn)生的離子束經(jīng)過(guò)離子槍加速，聚焦后作用于樣品表面，應(yīng)用于：產(chǎn)生二次電子信號(hào)取得電子像，此功能與SEM相似，用強(qiáng)電流離子束對(duì)表面原子進(jìn)行剝離,以完成微、納米級(jí)表面形貌加工，...